平面抛光机抛光(che而  caiMechanicalPolishing，简称CMp)作为集成电路(IntegratedCircult，简称lC)制造的核心技术被广泛应用于集成电路制造过程中硅片表面的局部和全局平坦化加工。硅片抛光机是一个非常复杂的过程，影响平面抛光机抛光过程的因素有很多，而加工区域中抛光液的动态压力和温度变化是影响表面非均匀性和材料去除率的关键因素之一。在集成电路制造中，采用的硅片尺寸不断增大，器件特征尺寸不断缩小，硅片抛光机抛光加工区域中抛光液动态压力和温度变化对硅片表面质量的影响越来越突出。目前，对IC制造中硅片CMP加工区域中抛光液动态压力和温度研究还不系统和完善，深入研究硅片·CMP加工区域中抛光液动态压力和温度变化对最终实现高质量、超精密、无损伤加工表面有着非常重要的意义。  

(l)根据润滑理论、渗流理论和微极流体理论，对大尺寸硅片CMP加工过程中含磨粒抛光液的流动性进行了研究，建立了抛光液流动的三维模型。研究了抛光液中悬浮纳米级磨粒的尺寸、浓度，抛光垫的多孔隙性能、厚度和表面粗糙度，硅片的尺寸和曲率，硅片和抛光垫的转速等关键因素对抛光液流动的影响，流体压力分布的实验结果与理论模拟的结果基本一致。

(2)根据化学机械抛光的特点，通过对现有实验设备进行改造，建立了硅片抛光机抛光试验台。该试验台实现了抛光头的主动旋转功能，抛光头的万向浮动功能;抛光载荷加载及调节功能，以及抛光液输送及流量控制功能。为进行化学机械抛光扭矩、抛光压力、摩擦力以及加工区域中抛光液动态压力和温度测量等研究提供了基础的试验平台。

(3)根据流体压力测量的基本原理，对硅片抛光机抛光加工区域中抛光液动态压力测量方法进行研究，提出了多点原位实时测量加工区域中抛光液动态压力的方法。在此基础上，对硅片抛光机抛光加工区域中抛光液流体压力测量系统进行了研究，建立了硅片CMP加工区域中抛光液动态压力实时检测系统，系统误差小于士0.25%，满足抛光液动态压力测试的要求。

(4)在CMp试验台丰，运用所建立的抛光液动态压力测量系统，进行硅片抛光机抛光加工.区域中抛光液流体动态压力测量实验，研究了抛光压力和相对速度对硅片抛光机抛光加工区域中抛光液流体动态压力的影响，结果表明:在抛光压力较小的情况硅片抛光机抛光加工区域中抛光液动压和温度研究下，硅片与抛光垫之间抛光液容易形成润滑承载膜，抛光液动态压力随着抛光压力的增加而增大;另一方面，在相同工况条件下，硅片与抛光垫之间的相对速度增加时，硅片与抛光垫之间抛光液产生的流体动态压力也增大。

(5)根据温度测量的基本原理，深入分析了影响硅片CMP加工区域中抛光液温度测量的各种因素，提出了基于接触法的多点原位实时测量硅片抛光机抛光加工区域中抛光液温度的方法。在此基础上，进行了硅片CMP加工过程中抛光液温度测量系统研究，建立了硅片抛光机抛光加工区域中抛光液温度测量系统，进行了抛光液温度测量的误差分析，并在测量中采取一些对应措施，排除干扰，减小了误差，使测量系统误差小于土0.47%。

(6)运用所建立的抛光液温度测量系统，进行了硅片抛光机抛光加工区域中抛光液温度测量实验研究，结果表明抛光压力、相对速度和抛光垫的摩擦系数等因素对加工区域抛光液温度变化具有决定性的影响.