超精密其压力相对于或者是低于精密研磨压力，超精密研磨抛光主要是使用自由磨粒，这里的磨粒主要是采用一种自由状态的软质精密研磨磨料，其磨粒可以自由的分散在介质中，在研磨抛光液中，加入适量的液体达到增加其分散程度。

    在平面抛光机的研磨抛光液中，自由磨粒在研抛力的作用下不断的进行翻滚，士气充分的发挥其作用，由于超精密研磨抛光中采用合适的频率，运用高运动平稳性，因而是关键在研抛过程中始终是处于一种很稳定的相对的位置。

    平面抛光机超精密研磨抛光运动轨迹是一种复杂的而均密的，所使用的磨料时一种采用了能够充分发挥研磨抛光的效能的自由的磨料，所以超精密研磨抛光可以同时的发挥抛光加工的各种优点。

    此外，超精密研磨抛光还具有液中研抛的冷却以及润滑的作用，可以及时排除一些在研磨抛光的过程中工件与研磨抛光头剧烈摩擦及去除微屑所产生的局部的切削热度。

    在抛光液中进行抛光不会出现一些偶然的工件表面缺陷，可以很容易的达到表面的粗糙度，其所产生的表面瑕疵很低，以上是平面抛光机轨迹复杂的特征。