这种化学抛光主要是让工件的表面在化学介质中，优先的溶解微观凸出部分的较凹的部分，最终得到比较平滑的表面。

　　这种方法操作较为简单，不需要较为复杂的设备，就能够抛光一个较为复杂的工件表面，这种化学抛光比较平面研磨机设备所进行的工件表面加工，主要的优点在于同时能够抛光较多的工件，并且效率比较高。而同时与之相比，其所达到的工件精度效果要低，在一定程度破坏了工件表面的化学性质。

　　进行化学抛光的时候所存在的核心问题主要是抛光液的配制。

　　电解抛光工件的原理与化学抛光的原理有相同之处，都是依靠选择溶解材料的表面微小部分，使其工件表面变得光滑。优点在于能够消除阴极反应的影响，效果会更好，这种抛光其表面会更加的平整。

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