在使用平面抛光机加工Ge片时，与之匹配的是一种含有MgO及强氧化剂两种成分的抛光液。
    为何要使用这些成分，而且这二者又为何要同时存在，这对平面抛光机的加工性能有什么影响？小编不禁对这个问题发生好奇。
    这要从Ge片被平面抛光机被研磨时发生的化学反应开始说起。

    据有关报道，当体系中存在Ge时，由于电极反应，强氧化剂会将衬底表面的Ge氧化成氧化物，转动的抛光布的机械摩擦可以将它除去。
    MgO在平面抛光机抛光过程中，主要起着研磨作用。由于Ge在常温下空气中稳定，也不被水所分解，盐酸和稀硫酸不与它作用，强碱对它也不起作用，因为MgO在水中的溶解度很小，在水中加入MgO产生OH^¯离子也很难与Ge作用，化学反应几乎未进行。
    所以当平面抛光机的机械抛光过程中不存在强氧化剂时，单独使用MgO加H₂O抛光Ge片，此时纯属MgO与Ge的机械研磨作用，不仅去层速率极慢，甚至平面抛光机的抛光难以进行，表面产生严重划道。
    反之，当体系中不存在Ge片，平面抛光机抛光速率极慢，此时，经过长时间抛光，得到的只是光亮感的桔皮状表面。
    总之，当平面抛光机的抛光液既有MgO，又有强氧化剂时，其抛光速度快、成本低、表面无桔皮、无波纹、无划道、无拉丝等宏观缺陷，质量很好。
    该种抛光液，同样也适用于镜面抛光机、铝合金抛光机等。